西藏GMP凈化車間溫濕度以及氣壓規(guī)定
發(fā)布時(shí)間:2017-08-15 瀏覽次數(shù):3188
西藏GMP凈化車間內(nèi)的溫濕度調(diào)節(jié)主要是根據(jù)工藝的要求來(lái)確定,在滿足工藝要求的條件下,還應(yīng)當(dāng)考慮西藏GMP凈化車間內(nèi)作業(yè)人員的舒適度。隨著空氣潔凈度要求的提高,出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。
西藏GMP凈化車間的具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要一一列舉,由于現(xiàn)代產(chǎn)品的加工精度越來(lái)越精細(xì),所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍要求不是那么嚴(yán)格。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中,作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。
直徑100um的硅片,溫度上升1度,就引起了0.24um線性膨脹,所以必須有±0.1度的恒溫,同時(shí)要求濕度值一般較低,因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染,潤(rùn)德凈化公司提示特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間,這種車間溫度不宜超過(guò)25度,濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí),冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露,如果發(fā)生在精密裝置或電路中,就會(huì)引起各種事故。
相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外,濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉,但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí),又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面,同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)最佳濕度范圍為35—45%。
西藏GMP凈化車間氣壓規(guī)定
對(duì)于大部分凈化車間,為了防止西藏GMP凈化車間氣遭受外界污染侵入,需要保持內(nèi)部的壓力(靜壓)高于外部的壓力(靜壓)。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則:
1、西藏GMP凈化車間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。
2、潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。
壓力差的維持依靠新風(fēng)量,這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以西藏GMP凈化車間壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。
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