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淺談凈化工程的發(fā)展趨勢是怎樣的?
發(fā)布時(shí)間:2020-10-14   瀏覽次數(shù):3318

文章摘要:節(jié)能已成為凈化工程的重要目標(biāo)。凈化工程是我國的主要能源消耗者之一。凈化工程中,空氣分子污染是IC工廠關(guān)注的問題,它是20年前日本人首次提出的。近年來,世界IC技術(shù)發(fā)展迅速,IC芯片日益微型化。

總體而言,凈化工程行業(yè)的變化趨勢主要體現(xiàn)在三個(gè)方向:競爭方向的變化,節(jié)能技術(shù)的發(fā)展和高端潔凈技術(shù)的探索。今天潤德凈化給你說說凈化工程的發(fā)展趨勢是怎樣的。

凈化工程

(1)競爭方向轉(zhuǎn)變。從價(jià)格競爭變?yōu)閮r(jià)值競爭。隨著電子產(chǎn)品的集成,致密化,小型化和功能化,凈化工程中,對(duì)元器件的可靠性要求越來越高,電子信息制造業(yè)對(duì)潔凈室的要求標(biāo)準(zhǔn)也更加嚴(yán)格。

少量的污垢或弱靜電可能會(huì)導(dǎo)致組件產(chǎn)品的產(chǎn)量大幅下降,凈化工程中,這直接影響公司的收益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi),部分IC的封裝環(huán)境要求達(dá)到Class10,甚至Class1的水平。

(2)節(jié)能已成為凈化工程的重要目標(biāo)。凈化工程是我國的主要能源消耗者之一。據(jù)不完全統(tǒng)計(jì),潔凈室的能耗是普通辦公樓的10-30倍。我國的8英寸芯片廠,潔凈室單位面積能耗比美國同型工廠高15%。美國耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2,而中國耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2。全年耗電量51%是用于潔凈室運(yùn)行及相關(guān)的維護(hù),如果將51%的能耗合理降低,對(duì)企業(yè)來說就意味著利潤的增長。

因此,潔凈室下游行業(yè)的公司越來越關(guān)注潔凈室的節(jié)能問題。這需要凈化工程行業(yè)的設(shè)計(jì)和建筑公司,從客戶需求出發(fā),從設(shè)計(jì)理念、建造施工、設(shè)備配備及運(yùn)行等各個(gè)方面進(jìn)行節(jié)能設(shè)計(jì),只有采取全方位的節(jié)能技術(shù),整個(gè)潔凈室行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。

(3)控制空氣分子污染和其他高端清潔技術(shù)。凈化工程中,空氣分子污染是IC工廠關(guān)注的問題,它是20年前日本人首次提出的。近年來,世界IC技術(shù)發(fā)展迅速,IC芯片日益微型化。

與顆粒污染相比,AMC對(duì)當(dāng)前IC生產(chǎn)的潛在污染更大。顆粒污染控制僅需要確定顆粒大小和數(shù)量,但凈化工程中,對(duì)AMC控制而言,除了受芯片線寬的縮小而變化外,并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料(化學(xué)品、特種氣體等)在很多情況下其微量的分子殘余對(duì)下一工序往往可能就是污染物。

因此,凈化車間中,AMC已成為一個(gè)重要問題,嚴(yán)重影響了某些生產(chǎn)工藝的成品率以及IC生產(chǎn)過程中各工藝之間的材料轉(zhuǎn)移和存儲(chǔ)環(huán)境,AMC分子控制技術(shù)成為潔凈室設(shè)計(jì)與施工建設(shè)的主流趨勢。


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