文章摘要：我國(guó)的潔凈工程技術(shù)的研究和應(yīng)用開始于20世紀(jì)50年代末，第一個(gè)潔凈工程于1965年在電子工廠建成投入使用，同一時(shí)期我國(guó)的高效空氣過濾器(HEPA)研制成功投入生產(chǎn)。
我國(guó)的
潔凈工程技術(shù)的研究和應(yīng)用開始于20世紀(jì)50年代末，第一個(gè)潔凈工程于1965年在電子工廠建成投入使用，同一時(shí)期我國(guó)的高效空氣過濾器(HEPA)研制成功投入生產(chǎn)。20世紀(jì)60年代是我國(guó)潔凈技術(shù)發(fā)展的起步時(shí)期，在高效過濾器研制成功后，相繼以HEPA為終端過濾的幾家半導(dǎo)體集成電路工廠、航空陀螺儀儀器廠、單晶硅廠和精密機(jī)械加工企業(yè)的潔凈工程建成。在此期間還研制生產(chǎn)了光電式氣溶膠濁度計(jì)，用以檢測(cè)空氣中塵埃粒子濃度;建成了高效過濾器鈉焰試驗(yàn)臺(tái)，這樣便為發(fā)展?jié)崈艏夹g(shù)建立了基本的手段。
從20世紀(jì)70年代末開始我國(guó)潔凈技術(shù)隨著各行業(yè)引進(jìn)技術(shù)和設(shè)備的興起得到了長(zhǎng)足進(jìn)步。1981年無隔板高效過濾器和液槽密封裝置通過鑒定并投入生產(chǎn)，隨后0.1pm高效空氣過濾器研制成功，為滿足超大規(guī)模集成電路的研制和生產(chǎn)創(chuàng)造了有利條件。80年代我國(guó)潔凈技術(shù)和潔凈廠房建設(shè)取得了明顯的成果，在建設(shè)大規(guī)模集成電路工廠、研究所、彩色顯像管工廠以及制藥工廠的潔凈工程工程、潔凈手術(shù)工程的同時(shí)，建成了一批5級(jí)(100級(jí))、6級(jí)(1 000級(jí))的潔凈工程，如500㎡的5級(jí)(100級(jí))垂直單向流潔凈工室、1080㎡的5級(jí)(100級(jí))垂直單向流潔凈室、5級(jí)(100級(jí))水平單向流手術(shù)室等潔凈工程的相繼建成并投入使用，這些潔凈工程的投入應(yīng)用標(biāo)志著我國(guó)的潔凈技術(shù)發(fā)展進(jìn)入了一個(gè)新的階段。為了適應(yīng)潔凈技術(shù)發(fā)展的需要，同時(shí)也為了使?jié)崈艏夹g(shù)健康地發(fā)展，為各行各業(yè)在建設(shè)潔凈工程時(shí)有法可依、有章可循，在總結(jié)我國(guó)發(fā)展?jié)崈艄こ碳夹g(shù)的經(jīng)驗(yàn)基礎(chǔ)上，吸取消化國(guó)際有關(guān)潔凈工程建設(shè)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)范的規(guī)定，于1984年編制完成了我國(guó)首部《潔凈廠房設(shè)計(jì)規(guī)范》 (GB] 73-84)。
隨著超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)技術(shù)持續(xù)飛速地發(fā)展， 20世紀(jì)90年代我國(guó)與國(guó)際知名公司合作或合資，建成一些集成電路工廠的高級(jí)別(0.1pm、 1級(jí)、10級(jí))的潔凈制造車間，這些
潔凈工程的投入使用，對(duì)促進(jìn)我國(guó)潔凈技術(shù)發(fā)展起到示范作用，但是集成電路產(chǎn)品加工技術(shù)更新速度十分迅速，對(duì)潔凈生產(chǎn)環(huán)境提出更新、更高的要求，不但溫度、相對(duì)濕度、防靜電、防微振等要求控制在非常嚴(yán)格的范圍內(nèi)，而且對(duì)空氣凈化的控制范圍已從塵粒發(fā)展到分子污染、化學(xué)污染，還要求提供對(duì)純度、雜質(zhì)含量的要求非常嚴(yán)格的超純氣體、超純水等，為了面對(duì)這些要求，我國(guó)潔凈技術(shù)工作者正在不斷探索、研究，以求適應(yīng)各行各業(yè)的需要。
