文章摘要：國內(nèi)外的凈化車間工程技術(shù)的發(fā)展都是隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展、工業(yè)產(chǎn)品的日新月異，特別是軍事工業(yè)、航天、電子和生物醫(yī)藥等工業(yè)的發(fā)展而不斷發(fā)展。
國內(nèi)外的
凈化車間工程技術(shù)的發(fā)展都是隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展、工業(yè)產(chǎn)品的日新月異，特別是軍事工業(yè)、航天、電子和生物醫(yī)藥等工業(yè)的發(fā)展而不斷發(fā)展。現(xiàn)代工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)和現(xiàn)代化科學(xué)實驗活動要求微型化、精密化、高純度、高質(zhì)量和高可靠性?；招突漠a(chǎn)品如電子計算機(jī)，從當(dāng)初的要在數(shù)間房間內(nèi)配置數(shù)臺設(shè)備組合發(fā)展到現(xiàn)在的筆記本電腦，它所使用的電子元器件從電子管到半導(dǎo)體分離器件到集成電路再到超大規(guī)模集成電路，僅集成電路的線寬已從幾微米發(fā)展到現(xiàn)今的0.1tm左右。以集成電路的微型化為例，它對空氣中受控粒子粒徑從0.3~0.5m的要求發(fā)展到空氣中受控粒子的粒子尺寸要求控制在0.05pm甚至更小，可見各類工,業(yè)產(chǎn)品的微型化正不斷對
凈化車間工程技術(shù)提出更嚴(yán)格的要求。高純度的產(chǎn)品，如生產(chǎn)集成電路所需單晶硅材料，生產(chǎn)光纖所需四氯化硅、四氯化儲材料等已由過去的所謂高純違入“電子純”、“超純”,只有達(dá)到如此高的純度才能達(dá)到現(xiàn)代集成電路、電子元器件、光纖產(chǎn)品所需的技術(shù)特性。要生產(chǎn)如此高純度的產(chǎn)品，就必須達(dá)到相應(yīng)的受控生產(chǎn)環(huán)境的空氣潔凈度等級和具有,相應(yīng)高純度的與產(chǎn)品直接接觸的超純水、超純氣體、超純試劑等。對于現(xiàn)今以“微型電腦”為手段的電子信息時代,產(chǎn)品的高質(zhì)量、高可靠性的重要意義是不宮而喻的；對于確保入身安全的滅菌操作以及對于現(xiàn)代基因工程和基因芯片的制作也具有特殊的意義?；谶@種趨勢，潔凈技術(shù)的發(fā)展已成為現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)和科學(xué)實驗活動不可缺少的重要標(biāo)志之一。
20世紀(jì)60年代的潔凈技術(shù)在美國、歐洲等發(fā)達(dá)國家順應(yīng)各行各業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)和科學(xué)實驗活動的需要得到了廣泛應(yīng)用，可以認(rèn)為是
專業(yè)凈化工程技術(shù)的大發(fā)展時期。到20世紀(jì)70年代末我國潔凈室設(shè)計、建造和潔凈技術(shù)的發(fā)展走向成熟階段。
20世紀(jì)80年代大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的迅速發(fā)展,大大促進(jìn)了潔凈技術(shù),的發(fā)展,集成電路生產(chǎn)技術(shù)從64K位到4M位，特征尺寸從2.0m到0.8m。20世紀(jì)90年代以來，超大規(guī)模集成電路的加工技術(shù)發(fā)展迅猛，每隔兩年其關(guān)鍵技術(shù)就會有一次飛躍,集成,度每三年翻四倍，是大規(guī)模集成電路發(fā)展?fàn)顩r。
