文章摘要：總體來看，潔凈工程行業(yè)的變化趨勢主要體現(xiàn)在3個方向，競爭方向轉(zhuǎn)變，節(jié)能發(fā)展，以及高端潔凈技術(shù)的探索。
總體來看，
潔凈工程行業(yè)的變化趨勢主要體現(xiàn)在3個方向，競爭方向轉(zhuǎn)變，節(jié)能發(fā)展，以及高端潔凈技術(shù)的探索。
1.競爭方向轉(zhuǎn)變。由價格競爭轉(zhuǎn)變?yōu)閮r值競爭。隨著電子產(chǎn)品的集成化、密化、微型化、功能化等趨勢，對元器件的可靠性要求越來越高，電子信息制造業(yè)對潔凈室的要求標準也更加嚴格。微量的臟污或微弱的靜電都有可能造成元器件產(chǎn)品良品率的大幅降低，直接影響公司的效益。目前硬盤磁頭的靜電壓閾值已經(jīng)下降到3 V以內(nèi)，部分IC的封裝環(huán)境要求達到Class10，甚至Class1的水平。電子信息行業(yè)的技術(shù)發(fā)展和高性能要求促使?jié)崈艄こ绦袠I(yè)企業(yè)由價格競爭轉(zhuǎn)向技術(shù)競爭，只有具備技術(shù)研發(fā)、自主創(chuàng)新能力的企業(yè)才能滿足客戶需求而持續(xù)發(fā)展，才能設(shè)計和建造符合要求的高端的潔凈室，相關(guān)技術(shù)和服務(wù)能力的提升將成為未來市場競爭的焦點。
2.節(jié)能化成為潔凈工程重要目標。潔凈廠房是我國的耗能大戶之一，據(jù)不完全統(tǒng)計，潔凈室的能耗是一般寫字樓的10~30倍。我國的8英寸芯片廠，潔凈室單位面積能耗比美國同型工廠高15%。美國耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2，而中國耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2（資料來源：中國電子學會潔凈分會）。以上海某知名芯片廠為例，其全年耗電量51%是用于潔凈工程運行及相關(guān)的維護，如果將51%的能耗合理降低，對企業(yè)來說就意味著利潤的增長。因此，潔凈室下游相關(guān)行業(yè)企業(yè)越來越重視潔凈室的節(jié)能問題。這就要求潔凈工程行業(yè)的設(shè)計和施工企業(yè)，從客戶需求出發(fā)，從設(shè)計理念、建造施工、設(shè)備配備及運行等各個方面進行節(jié)能設(shè)計，只有采取全方位的節(jié)能技術(shù)，整個潔凈工程行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。
3.向控制空氣分子污染等高端潔凈技術(shù)方向發(fā)展。空氣分子污染（Airborne Molecular Contaminants，AMC）作為IC工廠所關(guān)心的問題于20年前最先由日本人提出，近年來，世界IC技術(shù)發(fā)展迅速，IC芯片日益微型化。AMC對當前的IC生產(chǎn)其潛在的污染比粒子污染要廣泛多，粒子污染控制只需要確定粒徑及個數(shù)，但對AMC控制而言，除了受芯片線寬的縮小而變化外，并受工藝、工藝設(shè)備、工藝材料及傳送系統(tǒng)等的影響。更有甚者用于某一工序的各種工藝材料（化學品、特種氣體等）在很多情況下其微量的分子殘余對下一工序往往可能就是污染物。因此，IC生產(chǎn)過程中的某些加工工序及工序間的材料傳送和存放環(huán)境中，AMC已成為嚴重影響成品率的重要問題，AMC分子控制技術(shù)成為潔凈工程設(shè)計與施工建設(shè)的主流趨勢。目前，國內(nèi)的潔凈工程企業(yè)中已經(jīng)開始從事此方向的研究，在該領(lǐng)域比較領(lǐng)先的企業(yè)有亞翔集成，在分子凈化技術(shù)方面該公司已經(jīng)走在了同行業(yè)的前列，而中國電子工程設(shè)計院則在防微震方面技術(shù)領(lǐng)先。
