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　　近年，在這些規(guī)定范圍中保持處理空氣過程，相對(duì)濕度有一系列可能使凈化車間總體表現(xiàn)下降的因素，其中包括：細(xì)菌生長(zhǎng);工作人員感到室溫舒適的范圍;出現(xiàn)靜電荷;金屬腐蝕;水汽冷凝;光刻的退化;吸水性。

　　細(xì)菌和其他生物污染(霉菌，病毒，真菌，螨蟲)在相對(duì)濕度超過60%的環(huán)境中可以活躍地繁殖。一些菌群在相對(duì)濕度超過30%時(shí)就可以增長(zhǎng)。在相對(duì)濕度處于40%至60%的范圍之間時(shí)，可以使細(xì)菌的影響以及呼吸道感染降至最低。相對(duì)濕度在40%至60%的范圍同樣也是人類感覺舒適的適度范圍。濕度過高會(huì)使人覺得氣悶，而濕度低于30%則會(huì)讓人感覺干燥，皮膚破裂，呼吸道不適以及情感上的不快。

　　高濕度實(shí)際上減小了凈化車間表面的靜電荷積累──這是大家希望的結(jié)果。較低的濕度比較適合電荷的積累并成為潛在的具有破壞性的靜電釋放源。當(dāng)相對(duì)濕度超過50%時(shí)，靜電荷開始迅速消散，但是當(dāng)相對(duì)濕度小于30%時(shí)，它們可以在絕緣體或者未接地的表面上持續(xù)存在很長(zhǎng)一段時(shí)間。

　　相對(duì)濕度在35%到40%之間可以作為一個(gè)令人滿意的折中，半導(dǎo)體凈化車間一般都使用額外的控制裝置以限制靜電荷的積累。到目前為止，在半導(dǎo)體凈化車間中最迫切需要適當(dāng)控制的是光刻膠的敏感性。由于光刻膠對(duì)相對(duì)濕度極為敏感的特性，它對(duì)相對(duì)濕度的控制范圍的要求是最嚴(yán)格的水準(zhǔn)。

　　很多化學(xué)反應(yīng)的速度，包括腐蝕過程，將隨著相對(duì)濕度的增高而加快。所有暴露在凈化車間周圍空氣中的表面都很快地被覆蓋上至少一層單分子層的水。當(dāng)這些表面是由可以與水反應(yīng)的薄金屬涂層組成時(shí)，高濕度可以使反應(yīng)加速。潔凈車間的濕度控制由其生產(chǎn)工藝決定，但其精度同時(shí)也要看其房間的大小例如計(jì)量室、光柵刻線室、精密儀器制造和裝配車間等。